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ULVAC 愛發(fā)科刻蝕設(shè)備：NLD-570
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。
產(chǎn)品描述
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工
• 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工，在形狀或表面平滑性方面有優(yōu)異的刻蝕性能
• 石英及玻璃作為厚膜resist mask時的也可實(shí)現(xiàn)深度刻蝕（100μ m以上）
• 可實(shí)現(xiàn)高速刻蝕（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）
• 可追加cassette室
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 光學(xué)器件（光衍射格子、変調(diào)器、光開關(guān)等等）
• 凹凸型微透鏡
• 流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶
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