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ULVAC 愛發(fā)科刻蝕設(shè)備:NE-5700
量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700是可以對應(yīng)單腔及多腔、重視性價比擁有擴(kuò)展性的刻蝕設(shè)備,注重性價比。
產(chǎn)品描述
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• 除單腔之外,另可搭載有磁場ICP(ISM)或NLD等離子源、去膠腔體、CCP腔體等對應(yīng)多種刻蝕工藝
• 為實現(xiàn)制程再現(xiàn)性及安定性搭載了星型電極及各種調(diào)溫技能
• 擁有簡便的維護(hù)構(gòu)造,實現(xiàn)downtime最短化,提供清洗、維護(hù)及人員訓(xùn)練服務(wù)等綜合性的售后服務(wù)體制
• 專門的半導(dǎo)體技術(shù)研究所會提供萬全的工藝支持體制
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 化合物(LED或LD、高頻器件)或Power device(IGBT配線加工、SiC加工)
• 金屬配線或?qū)娱g絕緣膜(樹脂類)、門電極加工工藝
• 強(qiáng)電介質(zhì)材料或貴金屬刻蝕
• 磁性體材料加工