0769-2223 1935
ULVAC 愛發(fā)科刻蝕設備：NLD-5700
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨創(chuàng)的NLD技術設備可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）
產品描述
產品特性 / Product characteristics
• 在潔凈房內作業(yè)可擴張為雙腔。（可選配腔室：NLD、有磁場ICP、CCP或者去膠室）
• NLD為時間空間可控的等離子，因此設備干法清潔容易
• 腔體維護簡便
• 從掩?？涛g到石英、玻璃刻蝕，可提供各類工藝解決方案
• 專門的半導體技術研究所會提供萬全的工藝支持體制
產品應用 / Product application
• 光學器件（光衍射格子、変調器、光開關等等）
• 凹凸型微透鏡
• 流體路徑作成或光子學結晶
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