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ULVAC 愛發(fā)科刻蝕設(shè)備：NE-550EXz
在高真空條件下，通過RF高頻放電，產(chǎn)生等離子體，在偏壓的作用下，通過物理和化學(xué)的作用，對特定的材料去除。蝕刻材料：金屬，GaN，In P，SiO2，Si ，Polymide 等材料。Load –lock 式，全自動控制，專利ISM電極,均勻性高，安定性好，構(gòu)造簡單，維護(hù)簡便。
產(chǎn)品描述
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• 蝕刻均勻性，穩(wěn)定性優(yōu)異
• Load –lock式，全自動控制
• 應(yīng)用廣泛SiO2，SiN，金屬，化合物等
• 構(gòu)造簡單，維護(hù)簡便
• 2,4,6,8inch基板兼容,切換便利
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 功率器件，LED，光通信/傳感器，高校及研究所等
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