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ULVAC 愛(ài)發(fā)科刻蝕設(shè)備：INE-3085
面向LED、Powerdevice、MEMS等諸多領(lǐng)域開(kāi)發(fā)，搭載靜電吸附系統(tǒng)，采用更大的靜電托盤(pán)，較常規(guī)設(shè)備擁有更高的刻蝕速率和更大的產(chǎn)能。同時(shí)搭載ULVAC專(zhuān)利的ISM電極及Star電極，有更高的等離子體密度，同時(shí)擁有更低的電子溫度，有效抑制刻蝕損傷及溫升。
產(chǎn)品描述
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• 4inch晶圓可放置7片同時(shí)處理，6inch晶圓可實(shí)現(xiàn)3片同時(shí)處理，小尺寸晶圓方面，2inch晶圓可實(shí)現(xiàn)29片、3英寸可對(duì)應(yīng)12片同時(shí)處理
• 搭載了在化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域擁有600臺(tái)以上出貨實(shí)績(jī)的有磁場(chǎng)ICP（ISM）高密度等離子源
• 高生產(chǎn)性（比以前提高140%）
• 為防止RF投入窗的污染待在了愛(ài)發(fā)科獨(dú)自開(kāi)發(fā)的星型電極
• 徹底貫徹Depo對(duì)策，實(shí)現(xiàn)了維護(hù)便利、長(zhǎng)期穩(wěn)定、高信賴(lài)性的硬件
• 擁有豐富的工藝應(yīng)用的干法刻蝕技術(shù)（GaN藍(lán)寶石、各種metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半導(dǎo)體）
• 豐富的可選機(jī)能
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 對(duì)應(yīng)LED的GaN、藍(lán)寶石、各種金屬、ITO等的干法刻蝕設(shè)備
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