0769-2223 1935
微信公眾號
ULVAC 愛發(fā)科PECVD：CC-200Cz
在真空條件下，通過射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，Load-lock，托盤式，多基板尺寸，2inch-8inch 兼容。
產(chǎn)品描述
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• 等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備
• 用于SiO2,SiN的高精度薄膜沉積
• 膜層應(yīng)力穩(wěn)定,可調(diào)范圍廣泛
• 可換托盤式,基板尺寸切換簡便
• 2～12inch,方片,未定型片完美兼容
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 功率器件，LED，光通信/傳感器
• 高校及研究所等
上一篇
返回列表
